iTops Series PVD ITO 溅射系统
iTops Series PVD ITO Sputter System
- 设备特点
-
- 采用托盘形式，可兼容2/4/6 英寸晶圆
- 工艺温度在0~700℃之间
- 结构简单，操作简便，维护方便
- 设备稳定，运营成本低
- 产品应用
-
- 晶圆尺寸2、4、6英寸
- 适用材料铟锡氧化物
- 适用工艺ITO电流扩展层
- 适用领域半导体照明
