Pinnacle200 8英寸槽式清洗设备
Pinnacle200 8 Inch Wet Bench Tool
- 设备特点
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- 具备良好的工艺效果
- 精准控制药液混合比例
- 多样的药液比例扩展应用
- 精准的蚀刻速率控制
- 优秀的干燥效果
- 产品应用
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- 晶圆尺寸8英寸
- 适用材料光阻、单晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜、氮化钛、硅化物
- 适用工艺预清洗、去胶清洗、氮化硅、Co、Ti去除、Recycle 清洗
- 适用领域集成电路、功率半导体、衬底材料、硅基微型显示