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重稀土PVD连续镀膜设备
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CLP1000R6-2/ZM
重稀土PVD连续镀膜设备
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公司名称:
CLP1000R6-2/ZM 重稀土PVD连续镀膜设备
CLP1000R6-2/ZM Heavy rare earth PVD continuous coating equipment
设备采用真空镀膜技术,针对重稀土晶界扩散工艺中重稀土成膜工序进行专门设计,该设备具有常规真空镀膜技术的沉积膜层均匀、致密、附着力强等特点,还具有高稼动率、大产能等优点。
设备特点
采用卧式设计,整个操作过程自动运行
采用托盘支撑的工件摆放方式,可以节省装夹时间和节约人工,降低劳动强度和运行成本
选用新型专业定制的高利用率旋转阴极,靶材溅出率可达到85%~90%
旋转靶材拥有更长的使用时间,大大延长了设备的换靶周期/减少破空周期
良好的靶筒冷却系统使旋转阴极可以承受更高的功率密度
技术指标
镀层厚度均匀性
≤±5%
设备压升率(镀膜区)
≤0.6Pa/h(空载、室温)
冷却效率
20min内出料,工件表面温度≤80℃
靶材溅出率
靶材为10mm厚时,靶材溅出率≥82%
阴极数量
4套高利用率旋转阴极
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