真空装备 Vacuum Tech

VVK50.55

连续渗硅炉

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VVK50.55 连续渗硅炉
VVK50.55 Continuous silicon infiltration furnace
连续渗硅炉用于碳碳材料的高温渗硅处理工艺。设备由加热腔室、过渡腔室、冷却腔室、物料传输系统、快冷系统、真空系统、气路系统、控制系统等组成。
设备特点
  • 连续生产
  • 单位产品能耗低
  • 产品一致性好
技术指标
  • 炉内工作区截面尺寸
    500×550mm（宽×高）
  • 工作温度
    1700℃
  • 冷态极限真空度
    10Pa
  • 热态极限真空度
    80Pa
  • 压升率
    10 Pa/h
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