TAU Series 离子微粒吸附设备
TAU Series Thermal AMC Unit
- 设备特点
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- 提升产品蚀刻及显影良率
- 防止曝光设备镜面雾化以延长镜组使用年限
- 防止镜片组污染，延长灯具照度与寿命
- 产品应用
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- 湿度控制精度±5%RH~±3%RH
- 温度控制精度±0.5℃~±0.3℃
- 气状分子污染物去除率＞80% in Main AMC
- 适用领域主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光机中的AMC 污染物
