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THEORIS X302H
12英寸立式高温氧化炉
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公司名称：
业务联系人：李岑
THEORIS X302H 12英寸立式高温氧化炉
THEORIS X302H 12 Inch Vertical High-TEMP Oxidation Furnace
本产品主要应用于12英寸集成电路（IC）领域 高温（1000℃-1200℃）氧化/退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。
设备特点
先进的颗粒控制技术
先进的金属污染控制技术
高精度温度场控制技术
快速升/降温度技术
高产能
支持超高温工艺（1200℃）
产品应用
晶圆尺寸
12 英寸
适用材料
硅
适用工艺
高温氧化、高温退火
适用领域
集成电路、先进封装
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