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12英寸槽式清洗设备
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公司名称:
业务联系人:王龙
WE3102 12英寸槽式清洗设备
WE3102 12 Inch Wet Bench Clean Tool
主要用于集成电路、新兴应用等领域12英寸清洗工艺。采用模块化、标准化设计,满足客户多种工艺应用需求;集成多功能药液槽,刻蚀速率控制精准;应用先进的低压干燥技术,实现良好的干燥效果。
设备特点
可配备iCB多药液工艺槽,支持 DN unit, DIO3 等附属功能
软件量身定制,具备快速更新能力
较高的温度控制稳定性
超高的补水精度
精准的蚀刻速率控制
良好的干燥效果
产品应用
晶圆尺寸
12英寸
适用材料
光阻、单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金属膜、金属氧化物
适用工艺
炉前清洗、刻蚀 / 抛光后清洗、光阻去除、金属氧化物去除、氮化物去除、控挡片回收
适用领域
集成电路、新兴应用
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