半导体装备 Semiconductor

Pallas A220

碳化硅快速热退火系统

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Pallas A220 碳化硅快速热退火系统
Pallas A220 SiC Single Wafer Rapid Thermal Anneal System
Pallas A220 主要用于8英寸及以下快速热退火工艺。该机台采用快速热处理的成熟技术,通过灯管加热实现对晶圆在极短的时间内升温到高温,通过多温区控制实现温场均匀,用于离子注入后扩散激活退火等应用。
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产品应用
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