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12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机
半导体装备 Semiconductor
NMC 612M
12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机
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公司名称：
业务联系人：刘珂
NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机
NMC 612M 12 Inch TiN Metal HardMask Etcher
NMC612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机是应用于40-28nm制程集成电路的金属干法刻蚀设备，用于TiN，HR，M0C，HK等刻蚀工艺。
设备特点
先进的线宽、形貌、均匀性控制
多区温控静电吸附盘提高晶圆温度均匀性
低损伤的脉冲等离子体控制技术
优异的产能、工艺稳定性、低缺陷控制
产品应用
晶圆尺寸
12英寸
适用材料
金属
适用工艺
氮化钛金属硬掩膜、高K值介质刻蚀、金属电阻刻蚀、铝/钛、钽等金属及其化合物刻蚀
适用领域
集成电路
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