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ACE E300

12英寸等离子体高选择比刻蚀机

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ACE E300 12英寸等离子体高选择比刻蚀机
ACE E300 High Selectivity Etcher
ACE E300 利用超高精度的能量控制能力,专为12吋逻辑芯片制程在后摩尔时代的超高选择比,低离子体损伤,超高精度硅类,介质类,金属类刻蚀需求,以及3D结构中横向刻蚀的需求推出的革命性产品。
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