半导体装备 Semiconductor

iTops A230Ⅱ

PVD AlN铝溅射系统

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iTops A230Ⅱ PVD AlN铝溅射系统
iTops A230Ⅱ PVD AlN Sputter System
iTops A230 Ⅱ主要用于2/4/6英寸AlN缓冲层沉积工艺。该机台为单工艺腔室设备，配备传输腔室和冷却腔室。AlN设备具有占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，运营成本低等优势。
设备特点
产品应用
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